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32nm制程用沉浸光刻設備客戶需求量劇增

2010-06-18
關鍵詞: 工藝技術 32nm

 

     據荷蘭ASML公司高管透露,由于最近半導體廠商對沉浸式光刻設備的需求量劇增,著名光刻廠商ASML公司最近重新召回了先前辭退的700名員工,同時還招聘了數百名新員工,這名高管表示ASML公司還需要再增加300名員工,同時還預計公司將可保證各個客戶對光刻設備的訂單需求。
 
  由于消費電子設備以及PC市場對高密度芯片的需求在不斷上升,ASML公司的高管表示他預計他的客戶們在今明兩年不會碰上所生產的芯片產品供過于求的情況。
 
  據ASML公司今年一季度公布的財報數據顯示,這家光刻廠商今年一季度末的NXT:1950i型光刻機的存貨量為28臺,公司還透露今年第二季度將售出11臺這樣的設備。NXT:1950i 是專門為300mm 32nm及以上級別制程芯片產品設計的光刻設備。
 
  NXT:1950i和早期ASML沉浸式光刻機相同的1.35NA數據孔徑投影透鏡,但加入了對平臺定位技術有重大改進的新型NXT雙晶圓工作臺(twin stage)系統,以及改善的液體控制系統。最大每小時可產出200片300mm晶圓。這種光刻設備的售價大約在400萬美元每部。臺積電,聯電,前特許公司以及Intel-鎂光合資的IMFlash公司和一眾NAND閃存廠商等是ASML沉浸式光刻機的主要客戶;而Intel公司盡管在45nm制程應用了尼康和ASML兩家公司的光刻機,但在32nm節點Intel使用的全部是尼康的光刻產品。
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