《電子技術應用》
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一種EEPROM中高壓產生電路的設計與實現
2017年電子技術應用第10期
李振國1,2,何 洋1,2,胡 毅1,2,王晉雄1,2,唐曉柯1,2,原義棟1,2,李垠韜3,袁衛國3
1.北京智芯微電子科技有限公司,國家電網公司重點實驗室 電力芯片設計分析實驗室,北京100192; 2.北京智芯微電子科技有限公司,北京市電力高可靠性集成電路設計工程技術研究中心,北京100192; 3.國網冀北電力有限公司,北京100053
摘要: 設計了一種應用于EEPROM的低電源電壓的片內升壓電路。基于電壓倍乘電路,獲得兩倍于電源電壓的驅動電壓,用來驅動高壓電荷泵電路得到EEPROM擦寫用的15 V高壓,實現EEPROM在1.3 V電壓下穩定的工作。同時,基于負溫度特性的電壓分壓電路實現電荷泵輸出高壓的負溫度特性,提升了存儲器在整個工作溫度范圍(-40 ℃~85 ℃)內的可靠性。設計的高壓產生電路在0.13 μm Embedded EEPROM CMOS工藝實現,工作電壓為1.3 V~1.75 V,面積大小為600 μm×80 μm。
中圖分類號: TN752
文獻標識碼: A
DOI:10.16157/j.issn.0258-7998.179017
中文引用格式: 李振國,何洋,胡毅,等. 一種EEPROM中高壓產生電路的設計與實現[J].電子技術應用,2017,43(10):23-25,30.
英文引用格式: Li Zhenguo,He Yang,Hu Yi,et al. Design and realization of a high voltage generator circuit with low voltage applied in EEPROM[J].Application of Electronic Technique,2017,43(10):23-25,30.
Design and realization of a high voltage generator circuit with low voltage applied in EEPROM
Li Zhenguo1,2,He Yang1,2,Hu Yi1,2,Wang Jinxiong1,2,Tang Xiaoke1,2,Yuan Yidong1,2,Li Yintao3,Yuan Weiguo3
1.State Grid Key Laboratory of Power Industrial Chip Design and Analysis Technology, Beijing Smart-Chip Microelectronics Technology Co.,Ltd.,Beijing 100192,China; 2.Beijing Engineering Research Center of High-reliability IC with Power Industrial Grade, Beijing Smart-Chip Microelectronics Technology Co.,Ltd.,Beijing 100192,China; 3.State Grid Jibei Electric Power Company,Beijing 100053,China
Abstract: A high voltage generator circuit with low voltage is presented in this paper. Using voltage doubler circuit to get a higher voltage, charge pump circuit generates a 15 V high voltage for electrically erasable programmable read-only memory(EEPROM) normal operation in 1.3 V low voltage. A negative temperature divided voltage circuit was designed to realize a 15 V high voltage with complementary to absolute temperature(CTAT). EEPROM′s reliability was improved when the temperature changes from -40 ℃ to 85 ℃. The high voltage generator circuit has been implemented in 0.13 μm Embedded CMOS technology when the supply voltage varies from 1.3 V to 1.75 V. Its area is 600 μm×80 μm.
Key words : charge pump;EEPROM;band-gap reference

0 引言

    隨著物聯網的蓬勃發展,射頻識別芯片RFID迎來了爆發式的增長需求,EEPROM作為RFID芯片中核心部件,也被提出了低電源電壓、高密度、高可靠性等要求。隨著工藝尺寸的進一步減小,電路的工作電壓也在不斷降低,但是EEPROM的擦寫操作需要的15 V高壓一直不變,其中15.5 V高壓器件的閾值電壓接近于EEPROM的正常工作電壓[1-3];另外,存儲單元的擦寫電壓窗口隨溫度的降低而減小,降低了芯片在低溫條件下的可靠性。基于以上原因,設計了一款可以工作在低電源電壓條件下,同時產生具有溫度補償特性的擦寫高壓的電荷泵電路;通過對高壓電路的設計改進,提升了EEPROM的可靠性。

    本設計的高壓產生電路如圖1所示,包括時鐘驅動電路、電壓倍乘電路、電荷泵電路以及電壓穩壓電路。電壓倍乘電路將最低為1.3 V的電源電壓倍乘,用來驅動高壓電荷泵電路。時鐘驅動電路產生30 MHz的非交疊兩相時鐘用來驅動電荷泵。電荷泵電路通過從電壓倍乘電路抽取電荷產生15 V的高壓。電壓穩壓電路包括分壓電路和比較器,實現高壓電荷泵的輸出高壓穩定在15 V,同時產生一個反饋控制信號VFLAG。

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    當電荷泵輸出高壓大于15 V時,分壓電路得到的反饋電壓大于基準電壓,VFLAG等于0,控制時鐘驅動電路停止工作。同樣,當電荷泵輸出高壓小于15 V時,反饋信號小于基準電壓,VFLAG等于電源電壓,控制時鐘電路開始工作,使得電荷泵輸出高壓上升,從而實現輸出高壓穩定在一個合理的設計值。

    電荷泵是高壓產生電路中的核心部件。最早的片上電荷泵電路基于Dickson結構[4],該結構采用電容實現電荷從上一級傳遞到下一級;然而,器件的高閾值電壓及其體效應限制了電荷泵的增益,因此該結構不適用于低電源電壓環境。

    本論文中,采用電壓倍乘電路,得到兩倍于電源的電壓用來驅動主電荷泵電路,實現了高壓產生電路的低電源電壓工作[5]。同時,采用具有負溫度系數特性的分壓電路,實現電荷泵電路輸出電壓的負溫度特性,解決了EEPROM在低溫條件下可靠性降低的問題。

1 升壓電路

1.1 電壓倍乘電路

    圖2中,M1、M2是交叉連接的Native NMOS器件,其漏端neta、netb分別通過各自的電荷泵電容C1、C2連接至時鐘CLK及其不交疊反相時鐘CLKB。PMOS器件M5、M6為所有PMOS器件M3~M6提供合適的襯底電壓。M3、M4交叉連接構成輸出級。當CLK為低電平時,M1、M3導通,M2、M4截止,此時節點neta的電壓等于輸入電壓VIN。當CLK出現上升沿后,M1~M4全部截止,由于neta沒有充、放電通道,其電壓被抬高至VIN+VCLK,其中VCLK為時鐘CLK的幅度。因此,M1、M3截止,M2、M4導通。理想條件下,VOUT等于兩倍的電源電壓。該電路具有內部節點電壓不隨時鐘信號跳變而大幅度變化的特點。

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1.2 電荷泵電路

    電壓倍乘電路都有一個輸入電壓和一個輸出電壓,結果等于VOUT=VIN+VCLK。在理想情況下,將N個電壓倍乘電路作為子單元級聯起來就可以得到大小為(N+1)·VDD的電壓[6]。高壓電荷泵電路如圖3所示。

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    本設計中,電荷泵電路由10級電壓倍乘電路組成,其中第一級的輸入電壓為VDD,所有級的時鐘電壓幅度為電壓倍乘電路的輸出電壓,約為2·VDD

    因此,理想條件下電荷泵輸出電壓VPPH的理想值為:

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    由于體效應、高壓漏電等非理想因素的影響,電荷泵的輸出高壓達不到式(1)中的理想值。

1.3 電壓穩壓電路

    為了防止過高的高壓損壞存儲器件,降低EEPROM的可靠性,需要穩定電荷泵的輸出高壓。通常在高壓產生電路中增加電壓穩壓電路,如圖1所示。當分壓電路產生的反饋信號VFB高于帶隙基準源產生的參考電壓VREF時,比較器輸出邏輯‘0’,關閉電荷泵電路的驅動時鐘。同樣,當反饋信號低于VREF時,比較器輸出邏輯‘1’,時鐘驅動電路、電荷泵正常工作。

    為實現高壓信號VPPH與溫度負相關,設計了分壓比隨溫度變化的分壓電路。當溫度升高時,分壓電路中的二極管壓降減小,而溫度升高時,二極管壓降升高,使得VPPH隨溫度的升高而降低。

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2 實驗結果

2.1 仿真結果

    本文中的高壓產生電路在0.13 μm CMOS Embedded EEPROM工藝上實現,工作最小電壓1.3 V,時鐘頻率30 MHz,負載電容為50 pF。

    高壓產生電路VPPH的仿真結果如圖4所示,其中VBOOST信號為電壓倍乘電路的輸出電壓,用來向高壓電荷泵中電容提供電荷的驅動電壓;VPPH的大小為15 V。

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2.2 測試結果

    高壓產生電路作為EEPROM的一部分已經在0.13 μm CMOS Embedded工藝上完成制備,面積大小為800 μm×60 μm。

    圖5顯示了高壓產生電路的高壓輸出VPPH隨溫度變化的測量結果。可以看到,電壓VPPH在整個工作溫度范圍內(-40 ℃~85 ℃),隨溫度線性變化約為200 mV,提升了存儲器在低溫下的擦寫窗口,使得存儲器的低溫可靠性得到提升。

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3 結論

    在本文中,設計并制備了一個應用于EEPROM的低電源電壓工作的高壓產生電路。測量結果顯示電荷泵在1.3 V~1.65 V的電源下正常工作;同時采用負溫度特性的電壓分壓電路,實現電荷泵的高壓輸出具有負溫度特性,補償了存儲器件的電壓窗口隨溫度變化的問題,提升了低溫條件下的存儲器可靠性。

參考文獻

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[3] OTSUKA N,HOROWITZ M.Circuit techniques for 1.5 V power supply flash memory[J].IEEE J.Solid-State Circuits,1997,32(8):1217-1230.

[4] DICKSON J E.On-chip high-voltage generation in MNOS integrated circuits using aIl improved voltage multiplier technique[J].IEEE Journal of Solid-State Circuits,1976,11(3):374-378.

[5] FAVRAT P,DEVAL P,DECLERCQ M.J.A high-efficiency CMOS voltage doubler[J].Electronics Letters,1998,33(3):410-416.

[6] PELLICONI R,LEZZI D,BARONI A,et a1.Power efficient charge pump in deep submicron standard CMOS technology[J].IEEE dournal of Solid-State Circuits,2003,38(6):1068-1071.



作者信息:

李振國1,2,何  洋1,2,胡  毅1,2,王晉雄1,2,唐曉柯1,2,原義棟1,2,李垠韜3,袁衛國3

(1.北京智芯微電子科技有限公司,國家電網公司重點實驗室 電力芯片設計分析實驗室,北京100192;

2.北京智芯微電子科技有限公司,北京市電力高可靠性集成電路設計工程技術研究中心,北京100192;

3.國網冀北電力有限公司,北京100053)

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