將光刻掩膜版與涂上光刻膠的晶圓片對準，用一定波長的紫外光經過光刻掩膜版照射晶圓片，使晶圓片上受光照的光刻膠的特性發生變化，即曝光。

高端IC制造光刻機曝光光學系統是光刻機的“心臟”，是典型的超精密光學系統，是人類目前研制出的最為精密、最為復雜的光學儀器。

“在此之前，高端光刻機曝光光學系統在全球只有兩家能做：蔡司和尼康，并且對我們技術封鎖。”在IC China 2017展會上，長春國科精密光學技術有限公司市場企劃部經理李佩玥博士說道，“我們是一支百余名80后著名高校碩士、博士為主體、并富有強烈歷史使命感的研發團隊。高端光刻機曝光光學系統，我們要自己來做！”

長春國科精密光學技術有限公司市場企劃部經理李佩玥博士

九年風云集一鏡

2007年，長春光機所和上海光機所組建論證團隊，并啟動02專項“高端光刻機曝光光學系統”的項目論證工作；2009年，項目獲批啟動，高端光刻機曝光光學系統研發團隊開始承接02專項90nm光刻機曝光光學系統研制任務，長春團隊致力于物鏡系統研發，上海團隊致力于照明系統研發；2012年，團隊帶頭人、90nm ArF光刻機曝光光學系統首席科學家楊懷江博士對團隊內部架構進行調整，引入系統工程思想，構建面向復雜產品研發的集成化產品開發策略，劃分了9個專業組，采用矩陣式管理，為項目的成功研發奠定基礎；2014年，長春國科精密光學技術有限公司注冊成立；2016年9月，我國首套NA0.75光刻投影物鏡實現交付；2017年4月，我國首套NA0.75光刻照明系統實現交付。

照明系統和物鏡系統是光刻機的重要組成部分，其性能的好壞對光刻成像質量起決定性作用。據悉，長春和上海的兩個團隊所共同負責的國產90nm ArF光刻機曝光光學系統已于2017年7月首次曝光成功，并于2017年10月24日通過了02專項組織的整機環境下的驗收測試，其最終曝光實測分辨率達到了85nm的理想結果。

IC China2017展會中，觀眾參觀國科精密曝光光學系統

李佩玥博士認為，曝光光學系統最大的特點是“難”：“曝光光學系統是工程光學領域最復雜的光學系統，我國此前在此技術上積累幾近為零。研發過程涉及到光學加工、光學檢測、光學鍍膜、機械加工、機械檢測、結構裝調、精密控制等多個學科領域，毫不夸張地說，除了光學材料和機械材料需要從外部采購，上述每一個單元技術均要在團隊內部做到世界先進水平，而后，再在設計過程中不斷梳理各單元技術間的耦合關系，并逐步將這種耦合關系優化至最優狀態，這個過程的難度非常大。”

80后團隊的使命感

國科精密作為國家科技重大專項02專項支持的唯一高端光學技術研發單位，正在承擔NA0.82、NA1.35等多種類型高端IC制造投影光刻機曝光光學系統的技術研發及產業化推進工作。

其團隊主體由百余名“80后”985高校碩士、博士等高端技術人員組成，堅持九年只為解決我國集成電路裝備領域曝光光學系統的有無問題，用李佩玥博士的話說，“我們靠的是情懷！是信念！是我們的歷史使命感！”

“在此之前，國內在曝光光學系統方面的積累幾近為零，我們就是從零起步，從2007年組建論證團隊到2016年首套物鏡系統交付，我們用了整整九年！” 李佩玥感嘆，“解決國家戰略需求！正是這種信念將我們的團隊聚在一起，攻堅克難，勇往直前。”

從無到有，國科精密已經實現了“0”的突破，雖然目前仍與國際一流水平存在一定差距，但這樣一支充滿使命感的團隊將會繼續朝著新的目標前進。李佩玥博士表示，“21世紀是光的世紀，我們已經掌握了核心的高端光學技術，未來市場的大門已經向我們敞開，相信我們的技術能夠做到真正意義上的“為國所用、為民所用”。希望未來能夠與各行業的用戶一起，共同開拓國際化高端光學細分市場！”