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全球半導體設備廠商 TOP 12強以及大陸TOP 10強盤點

2018-10-25
關鍵詞: 半導體 顯示 晶圓 NASDAQ

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Applied Materials(應用材料)

應用材料公司是一家半導體顯示制造設備商,應用材料公司成立于1967年,2017財年,應用材料公司營業額達到145億美元,在17個國家設有90個分支機構,全球員員工人數18400人。擁有超過11,900專利。

1984年,應用材料公司在北京設立了中國客服中心,成為第一家進入中國的國際芯片制造設備公司。通過長期參與中國的高科技制造業,應用材料公司為半導體、先進顯示以及太陽能光伏制造行業提供設備與服務。

作為一家老牌的美國半導體設備商,應用材料(AMAT)是全球最大的半導體設備公司,產品橫跨CVD、 PVD、刻蝕、CMP、RTP等除光刻機外的幾乎所有半導體設備。在全球晶圓處理設備供應商中排名第一,應用材料市占率19%左右,其中,在PVD領域,應用材料占據了近85%的市場份額,CVD占30%。

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Lam Research(泛林)

LamResearch是刻蝕機設備領域龍頭。Lam Research是向世界半導體產業提供晶圓制造設備和服務的主要供應商之一。主要從事半導體生產設備、開發、制造、銷售及售后服務。公司的產品有等離子刻蝕機,化學機械拋光及清洗設備等。總部設在加州硅谷,是一家在NASDAQ上市公司。公司在世界各地設立了40多個分公司和客戶服務中心。鎂光科技、三星電子、SK 海力士等都是其主要客戶。

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Tokyo Electron(東京電子)

Tokyo Electron LTD (簡稱TEL)成立于1963年,是全球領先的半導體制造設備和液晶顯示器設備的制造商。東京電子是日本IC和PFD設備最大制造商,也是世界第三大IC和PFD設備制造商。

東京電子在半導體及液晶顯示器的制造設備方面,TEL對全球電子產業的發展做出了巨大的貢獻。TEL集團遍布全球,在日本、美國、歐洲、臺灣、韓國及中國等地都建立了自己的網點。

東京電子的膜沉積和蝕刻設備營收在2016年漲幅超大大,這兩種設備是用在生產大容量的 3D存儲器。

公司在 2018 財年營業收入增長 37.96%,凈利潤增長 73.09%。公司十分注重研發投入, 2018 財年的計劃研發費用約 1200 億日元(約合 80 億人民幣),設備投資 510 億日元(約合 30 億人民幣),

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ASML(阿斯麥)

ASML (全稱: Advanced Semiconductor Material Lithography), 目前該全稱己不做為公司標識使用,公司的注冊標識為ASML Holding N.V),中文名稱為阿斯麥(中國大陸)、艾司摩爾(中國臺灣)。是總部設在荷蘭Veldhoven的全球最大的半導體設備制造商之一。

ASML為半導體生產商提供光刻機及相關服務,TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生產效率最高,應用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數半導體生產廠商,都向ASML采購TWINSCAN機型,例如英特爾(Intel),三星(Samsung),海力士(Hynix),臺積電(TSMC),中芯國際(SMIC)等。

目前,荷蘭ASML幾乎壟斷了高端領域的光刻機,市場份額高達80%。全球只有ASML能夠生產EUV(極紫外光刻機),ASML新出的EUV光刻機可用于試產7nm制程,價格高達1億美元。

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KLA-Tencor(科天)

KLA-Tencor于1997年4月通過 KLA Instruments (KLA)和 Tencor Instruments (Tencor)合并成立。 這兩家公司一直是半導體設備和良率管理軟件系統行業的長期領跑者。 在合并之前,兩家企業分別致力于檢測和量測領域,KLA專注于缺陷檢測解決方案, 而Tencor則致力于量測解決方案。 通過價值13億美元的一比一股票互換合并, KLA-Tencor 一舉成為行業頂尖的工藝管控供應商,并且獨家為客戶提供完整的良率管理系列產品及服務。

KLA-Tencor公司是工藝控管和良率管理解決方案業界領跑者, 與世界各地的客戶合作開發最先進的檢測和量測技術。 這些技術致力于半導體, LED等相關納米電子工業。

科磊自成立起便深耕于半導體前道檢測設備行業, 目前其產品種類已經覆蓋加工工藝環節的各類前道光學、電子束量檢測設備。 憑借其檢測產品高效、精確的性能特點,科磊以52%的市場份額在前端檢測設備行業內具有絕對的龍頭地位。

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Screen Semiconductor Solutions(迪恩士)

迪恩士(SCREEN)總部位于日本。成立于1868年,于1975年開發出晶圓刻蝕機,正式開啟半導體設備制造之路。在隨后的40多年里,迪恩士專注于半導體制造設備,尤其是清洗設備的研發與推廣,開發出了適應于多種環境的各類清洗設備,并在半導體清洗的三個主要領域均獲得第一的市場占有率。

迪恩士有4個主要的業務方向,半導體制造設備、圖像情報處理機器、 液晶制造設備、印刷電路板設備。半導體制造設備包括清潔、涂布和退火設備,半導體制造設備是該公司收入的主要部分,2017年占總收入的66.7%。從2016年財年來看,半導體制造設備中,清洗設備收入占該業務收入的90%。

迪恩士不僅在半導體清洗設備,也在圖像情報處理機器和液晶制造設備行業擁有龍頭地位。 在圖像情報處理機器領域,該公司的脫機直接印版(CTP技術)設備市場占有率為31%,為全球第一位。而在液晶制造設備領域, 液晶涂布機的市場占有率為71%,也為全球第一。

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SEMES(細美事)

SEMES成立于1993年,是半導體和FPD兩個事業為主的綜合設備廠商,于2004年建立TFT LCD設備生產為目的的第三工廠。Semes是韓國最大的預處理半導體設備與顯示器制造設備生產商,可稱其為韓國半導體設備廠第一大廠,主要生產清洗、光刻和封裝設備。

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Hitachi High-Technologies(日立高新)

日立高新(Hitachi-High Technologies)成立于2001年,由Hitachi Ltd. Instruments Group和Semiconductor Manufacturing Equipments Group與Nissei Sangyo Co.,Ltd。(一家專注于電子產品的公司)合并而成。

日立高新生產的設備包括:半導體制造設備,如芯片貼片機和蝕刻和檢測系統; 分析和臨床儀器,如電子顯微鏡和DNA測序儀; 平板顯示器(FPD),液晶顯示器(LCD)和硬盤的制造設備; 計量和檢查設備。該公司還銷售鋼鐵,塑料,硅芯片,精細化學品,光學元件以及汽車相關設備和材料。日立高科技在日本的銷售額占42%。日立擁有該公司近52%的股份。

在半導體設備方面,日立高新主要生產沉積、刻蝕、檢測設備,以及封裝貼片設備等。

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Hitachi Kokusai(日立國際電氣)

Hitachi Kokusai Electric于2000年10月成立,由三家日立集團公司合并而成,這些公司從事與視頻,無線通信和半導體制造設備相關的業務。國際電氣:從事無線通信設備與半導體制作,1949年設立;日立電子:從事無線通信設備與映像設備制作,1948年設立;八木天線(Yagi Antenna),由發明八木天線的八木秀次博士于1952年成立,擁有天線專利。

該公司生產的半導體設備主要是熱處理設備。

10

Daifuku(大幅)

Daifuku(大福)(集團)公司自1937年成立以來,始終致力于物料搬運技術與設備的開發、研究。

大福(集團)有六項主要業務:制造業及流通產業;半導體、液晶制造業;汽車制造業;機場專用系統;洗車機及相關產品;電子產品。

其中在半導體、液晶制造業中,面向半導體、液晶制造業提供自動化潔凈室輸送、存儲系統。該系統在生產智能手機和平板電腦所需的半導體和液晶顯示器的過程中起著至關重要的作用,目前已在北美、韓國、中國和臺灣等國家和地區獲得了可觀的銷售業績。

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ASM International(先域)

ASMI(ASM International)總部位于荷蘭阿爾默勒,在阿姆斯特丹泛歐證券交易所上市。制造業設在新加坡和韓國。

ASMI主要生產光刻,沉積,離子注入和單晶圓外延設備,擅長是原子層沉積(ALD)和等離子體增強原子層沉積(PEALD)產品。

ASM是ASM International NV集團的一部分,該集團還包括ASM Pacific Technology(ASMPT)。

ASM是晶圓加工半導體工藝設備的領先供應商。公司開創了許多工業中使用的晶圓加工技術的重要方面,包括光刻,沉積,離子注入和單晶圓外延。近年來,公司將R&D的原子層沉積(ALD)和等離子體增強原子層沉積(PEALD)直接引入先進制造商的主流生產。

ASMP擁有大約2%的大部分所有權,是晶圓組裝和封裝以及表面貼裝技術的半導體工藝設備的領先供應商。

12

Nikon(尼康)

尼康成立于1917年,最早通過相機和光學技術發家,1980年開始半導體光刻設備研究,1986年推出第一款FPD光刻設備,如今業務線覆蓋范圍廣泛。尼康既是半導體和面板光刻設備制造商,同時還生產護目鏡,眼科檢查設備,雙筒望遠鏡,顯微鏡,勘測器材等健康醫療和工業度量設備。

在FPD光刻方面,尼康則可發揮其比較優勢,尼康的機器范圍廣泛,從采用獨特的多鏡頭投影光學系統處理大型面板到制造智能設備中的中小型面板,提供多樣化的機器。

尼康雖然在芯片光刻技術上遠不及ASML,目前的產品還停留在ArF和KrF光源,且售價也遠低于ASML,和EUV更加難以相提并論。但目前,其盈利性也很大程度上依賴光刻設備,尤其是芯片光刻設備,2017年光刻設備營收占比高達33%。

尼康的研發投入也持續增長,但其中對于光刻設備的投入比重卻在下降。從2008年260億日元一路下降至2017年160億日元。


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