近期，國產刻蝕機取得新的突破。北方華創近日宣布，公司ICP刻蝕機1000腔已經順利交付。
北方華創自2001年成立后便開始組建團隊研發刻蝕技術，并于2004年第一臺設備成功起輝，2005年第一臺8英寸ICP刻蝕機在客戶端上線，并于2007年獲得國家科學技術進步二等獎。
目前，北方華創的刻蝕設備已覆蓋集成電路、LED、先進封裝、功率半導體、MEMS、化合物半導體、硅基微顯等多個領域。
其中，12英寸ICP刻蝕機在實現客戶端28nm國產化替代的同時，在14/7nm SADP/SAQP、先進存儲器、3D TSV等工藝應用中也發揮著重要作用。
北方華創表示，lCP刻蝕機交付突破1000腔，不僅是公司發展征程中的重要里程碑，更是國產刻蝕機在歷經了二十載自主創新，得到客戶廣泛認可的重要標志。
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