據(jù)美媒報道，一位美國官員透露，拜登政府在確認EUV光刻機在科技產(chǎn)業(yè)中的戰(zhàn)略價值后，已與荷蘭政府進行接觸，并以國家安全為由要求荷蘭方面限制向中國大陸出售EUV！
　　報道披露，拜登正式就職不到一個月，其國家安全顧問沙利文已就“在先進技術(shù)方面的密切合作”與荷蘭方面進行交談。美國官員透露，繼續(xù)限制阿斯麥與中國大陸的合作，是沙利文的首要任務。

　　事實上，中美圍繞荷蘭ASML光刻機發(fā)生的紛爭，早在2018年就已經(jīng)開始了：
　　2018年5月，國內(nèi)最大晶圓代工廠中芯國際向ASML下單了一臺價值1.2億美元的EUV光刻機，預計2019年底交付，2020年進行安裝。
　　幾乎是同一時間，當時的特朗普政府就向荷蘭政府發(fā)出威脅，不得向中國交付這臺EUV光刻機，否則美國政府將斷供該光刻機上必須的美國造設(shè)備。
　　2019年11月，ASML宣布，荷蘭政府不再續(xù)簽相關(guān)出口許可，向中芯國際出售EUV光刻機的計劃正式終止。

　　任何一家芯片制造商都愿意盡一切可能提高自家芯片的性能，從而以最大優(yōu)勢獨占整個商業(yè)市場。因此當2015年ASML正式推出EUV型光刻機后，臺積電、三星等全球芯片代工大廠立刻搶購，三星前CEO李在镕甚至曾親自前往ASML總部交涉。
　　這樣努力的結(jié)果就是，截至目前為止，單臺積電一家就已經(jīng)擁有近50臺EUV光刻機。而依靠這些EUV光刻機，臺積電在2020年與三星一起推出了5nm級芯片制備工藝，并計劃在2022年推出3nm級芯片，幾乎可以說是壟斷了全球10nm級以下芯片代工業(yè)務。
　　在ASML的NA EUV型光刻機計劃推出后，臺積電和三星又立刻做出反應，宣布希望最早在2024年能用上NA EUV光刻機，以生產(chǎn)2nm級芯片。而此時中芯國際這邊卻連一臺EUV都求購不得……美國這道禁令對我國IC業(yè)的殺傷力有多大，由此可見一斑。
　　另外，雖然對于中國來說，沒有阿斯麥的光刻機確實是個不小的麻煩，但是這并不能真的困死中國，美國的打壓，只會讓中國更加想要實現(xiàn)光刻機的“自給自足”。據(jù)了解，中國很多機構(gòu)已經(jīng)開始參與光刻機領(lǐng)域的分項研究。
　　今年6月8日，英國科技媒體“VERDICT”在一篇報道中稱，上海微電子計劃在今年底推出一臺國產(chǎn)28nm DUV光刻機，并在上海的一條專有生產(chǎn)線上為物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備制造48nm和28nm芯片。該報道還提到，上海微電子管理層近期表示，提高48nm和28nm的良率仍然是一個挑戰(zhàn)，但該公司現(xiàn)在擁有基本的自主光刻技術(shù)能力，無需美國IP來制造芯片。

　　VERDICT評論稱，現(xiàn)在評估中國企業(yè)在光刻機領(lǐng)域改變市場規(guī)則還為時過早，但是上海微電子已經(jīng)在一個極其困難的技術(shù)領(lǐng)域取得突破。
　　其實，美國政府現(xiàn)在打壓中國就是為了維護自身科技壟斷和霸權(quán)地位，但是他們以為這樣就能打垮中國，那就是大錯特錯。
　　7月14日，上海市政府發(fā)布《上海市先進制造業(yè)發(fā)展“十四五”規(guī)劃》。其中提到，“十四五”時期將加強裝備材料創(chuàng)新發(fā)展，突破光刻設(shè)備、刻蝕設(shè)備、薄膜設(shè)備、離子注入設(shè)備、濕法設(shè)備、檢測設(shè)備等集成電路前道核心工藝設(shè)備。
　　也許是看到中國在突破半導體設(shè)備方面的決心，阿斯麥CEO溫彼得今年4月曾向美國喊話，“如果你采取出口管制措施將中國市場拒之門外，這將迫使他們爭取技術(shù)主權(quán)，就其真正的技術(shù)主權(quán)而言……在15年的時間里，他們自己將能夠做出所有的這些東西，而且他們的市場（針對歐洲供應商的市場）將徹底消失。”
　　而《華爾街日報》認為，中國追上阿斯麥的光刻機技術(shù)至少需要10年。