12月9日消息,有投資者向晶瑞電材提問,晶瑞電材是否擁有KrF光刻機?是否具備批量生產KrF光刻膠的條件?對此,晶瑞電材回應,公司近期已購得KrF光刻機一臺,可用于KrF光刻膠的曝光測試,同時公司KrF光刻膠量產化生產線正在積極建設中。
眾所周知,今年以來,全球芯片供應緊缺持續,各大晶圓廠積極擴張產能,上游半導體耗材光刻膠等材料需求巨大,如今晶瑞電材KrF光刻膠量產化有望,將很大程度緩解光刻膠產能緊缺的窘境。
晶瑞電材或成國內第二家實現KrF光刻膠量產企業
從國內本土光刻膠企業的產能情況來看,國內KrF光刻膠產量嚴重緊缺,目前能批量供應KrF光刻膠的企業只有北京科華一家公司。現在晶瑞電材的高端KrF光刻膠高端已完成中試,建成了中試示范線,目前已進入客戶測試階段;這次晶瑞電材再次購得KrF光刻機,意味著晶瑞電材有望快速實現其KrF光刻膠產線進入量產化階段,成為國內第二家可量產KrF光刻膠的企業。
(圖源晶瑞官網)
晶瑞電材是國內技術領先的微電子化學品龍頭,主要產品包括超凈高純試劑、光刻膠、功能性材料、鋰電池材料等,廣泛應用于半導體芯片、面板顯示、LED等泛半導體領域及鋰電池、太陽能光伏等新能源行業。
晶瑞電材的光刻膠產品由其的子公司蘇州瑞紅生產,規模生產光刻膠30年,產品序列齊全,產業化規模、盈利能力均處于行業領先水平,是國內最早規模量產光刻膠的少數幾家企業之一,
晶瑞電材的半導體光刻膠布局中,i線光刻膠已經量產,擁有 i 線光刻膠 100 噸/ 年,并批量出貨給國內晶圓制造頭部企業,是目前國內少數幾家實現光刻膠量產的企業之一,其i 線光刻膠已向國內頭部的知名大尺寸半導體廠商供貨,主要客戶包括中芯國際、華虹宏力、上海積塔、長江存儲、士蘭微、合肥長鑫、揚杰科技等半導體行業知名企業。
根據晶瑞電材的財務總監、董秘陳萬鵬透露,晶瑞去年1.79億元的光刻膠收入中,有80%~85%來自半導體客戶。
國內光刻膠行業形勢嚴峻
光刻膠又稱“光致抗蝕劑”,是光刻成像的承載介質,其作用是利用光化學反應的原理將光刻系統中經過衍射、濾波后的光信息轉化為化學能量,進而完成掩模圖形的復制。
一定程度上來說,光刻出的電路圖案越精密,就代表著芯片性能越好。采用不同的光刻光線,對應地需要搭配不同的光刻膠。目前,根據不同的光波長,光刻膠大致可以分為G線、I線、KrF、ArF、EUV這幾類。
一直以來,半導體光刻膠都屬于光刻膠高端產品,由于國內光刻膠領域起步較晚,技術嚴重落后等原因,導致我國半導體芯片領域的光刻膠需求主要由外資企業來滿足,日美廠商占據了約87%的份額,國內光刻膠產品進口比例高達九成。同時,因為高端光刻膠保質期僅有6~9個月,且保存較為困難,所以芯片制造商通常不會大量囤貨,只有在需要的時候才會向光刻膠廠商進貨。
如今國內的光刻膠企業能實現量產供貨KrF光刻膠的企業只有北京科華一家,這根本應付不了國內如此龐大的半導體市場,因此,在國內的光刻膠行業里,一旦日本廠商限供,中國芯片制造廠商就會陷入“無膠可用”的困境。
今年年初的時候,央視報道“光刻膠靠搶!進口芯片漲價20%”,由此可見目前的光刻膠有多緊缺。在今年5月下旬,市場突然有消息稱,全球光刻膠龍頭企業日本信越化學出現產能緊張,將限制向大陸芯片廠商供貨KrF光刻膠。
目前,國內的光刻膠企業中,可量產i/g line光刻膠的企業有北京科華、晶瑞電材;可量產KrF的企業只有北京科華;其中,晶瑞電材公司的i線光刻膠已實現供貨中芯國際、合肥長鑫等國內FAB廠,北京科華則在為中芯國際供貨KrF光刻膠,其他諸如南大光電、上海新陽等國產光刻膠廠商的光刻膠產品仍處于研發或少量生產階段,還未實現量產。
北京科華是唯一被SEMI列入全球光刻膠八強的中國光刻膠公司,其研發進度國內領先,該公司的KrF光刻膠已經實現量產,在2012年12月建成KrF(248納米)光刻膠產線。
南大光電自主研發的ArF光刻膠產品已經成功通過武漢新芯的使用認證,成為通過產品驗證的第一家國產ArF光刻膠企業,目前,南大光電建有ArF光刻膠產品大規模生產線,將形成年產25噸ArF(干式/浸沒式)光刻膠產品的生產能力,產品性能可以滿足90 nm-14 nm集成電路制造的要求。
上海新陽已立項研發集成電路制造用高分辨率193 nmArF光刻膠及配套材料與應用技術,其KrF厚膜光刻膠2021年開始實現少量銷售,預計2022年可實現量產;ArF干法光刻膠尚在認證當中,在2022年可實現少量銷售,2023年開始量產,其合肥第二生產基地項目正在按計劃建設當中。
雖然國內的多家光刻膠企業正在迅速發展,但仍在產能與技術先進程度兩端與當前國際先進光刻膠企業存在明顯差距。這主要是由于缺乏光刻膠核心設備——光刻機所致。
對于光刻膠生產企業而言,光刻機尤為重要。一般來說,光刻膠與光刻機往往是結盟售賣,在光刻膠的研發階段中,企業需要購買光刻機或與擁有光刻機的芯片制造廠合作,以及時驗證光刻膠及其配套試劑的性能。光刻機除了在研發和產品驗證過程中用于自主曝光檢測之外,更為關鍵的是為了保證半導體光刻膠在大規模量產過程中產品質量的穩定,光刻機同樣也是必不可少的檢驗檢測設備之一。
目前,國內光刻膠生產企業和芯片生產企業一樣面臨無機可用的局面,如今,一臺光刻機的售價從數千萬美元高至過億美元,全球最先進的EUV光刻機售價達1.2億美元,成本極大。而對于國內企業來說,光刻機更是有價無市,在美國的限制下,國外高端光刻機根本進入不了國內,國產企業始終難以獲得高端光刻機。
此前中芯國際向ASML購買的光刻機產品更是遲遲無法落地。
光刻膠作為技術壁壘最高的半導體材料,不僅需要在產能與技術先進程度方面有所突破,還需要客戶的支持,因此,國內光刻膠行業要想有實質性的發展,需要上下游協同推進。
結語
目前來看,在半導體產業鏈條中,光刻膠市場占比不足1%。據公開數據顯示,2020年全球半導體市場規模4260億美元,而作為半導體市場關鍵材料的光刻膠市場規模卻僅為19億美元。
對于國內企業來說,在光刻膠行業取得良好的發展,是突破美國對于國內半導體行業的封鎖的絕佳機會。現在國內的光刻膠企業雖然在中低端光刻膠領域有所進展,但在高端光刻膠領域明顯存在差距,后續能否在該領域實現突破,還有待觀望。