6月4日消息，據(jù)媒體報道，比利時微電子研究中心（IMEC）與阿斯麥（ASML）宣布在荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven）開設聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室（High NA EUV Lithography Lab）。

該實驗室經(jīng)過多年的精心構建與集成，現(xiàn)已全面準備就緒，將為全球領先的邏輯和存儲芯片制造商以及先進材料和設備供應商提供尖端技術支持。

實驗室內的核心設備為一臺原型高數(shù)值孔徑EUV掃描儀（TWINSCAN EXE：5000），以及與之配套的處理和計量工具，這些工具將共同助力未來芯片制造的突破。

此次聯(lián)合實驗室的開放，被視為High-NA EUV技術大批量生產準備過程中的重要里程碑。業(yè)界預計，隨著該技術的不斷成熟和普及，將在2025-2026年期間迎來大規(guī)模的量產應用。

值得一提的是，阿斯麥此前已公開展示了最新一代的High NA EUV光刻機。這款光刻機體積龐大，相當于一臺雙層巴士，重量更是高達150噸。

由于其龐大的體型和復雜的組裝過程，該設備需要被分裝在250個單獨的板條箱中進行運輸，顯示了其在制造和運輸過程中的非凡挑戰(zhàn)。

盡管High NA EUV光刻機的制造成本高昂，據(jù)透露其售價高達3.5億歐元（約合人民幣27億元），但其在半導體制造領域的價值無可估量。它將成為全球三大晶圓制造廠實現(xiàn)2nm以下先進制程大規(guī)模量產的必備武器。