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英偉達將降低GPU挖礦效率，同時發(fā)布以太坊開發(fā)專用芯片“CMP”
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鼎龍股份：擬新建集成電路CMP用拋光墊項目及集成電路制造清洗液項目
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芯思想 | 電科裝備首臺CMP進入中芯國際大生產(chǎn)線，國產(chǎn)裝備開始新征程
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陶氏發(fā)表 OPTIPLANE? 先進半導(dǎo)體制造化學(xué)機械研磨液(CMP)平臺
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半導(dǎo)體、電子設(shè)備 迎來最佳發(fā)展機遇 薦7股
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Entegris 發(fā)布針對先進半導(dǎo)體制造的新型化學(xué)機械研磨后清洗解決方案
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摩爾定律聲聲喚 CMP制程再精進
發(fā)表于：9/26/2011 12:29:48 PM
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意法半導(dǎo)體通過CMP提供28納米CMOS制程
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