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巴斯夫:已為中國芯片業(yè)邁入10nm以下制程做好準備

2018-06-04
關鍵詞: 華為 電子 芯片 制程

  兵馬未動,糧草先行。近日,巴斯夫化工集團位于浙江嘉興的新建電子級硫酸裝置正式投入運營,其生產(chǎn)的超純硫酸將滿足國內(nèi)芯片廠商未來幾年的工藝升級需求,巴斯夫電子材料業(yè)務部亞太區(qū)副總裁言甯璿博士向《IT時報》記者表示:“巴斯夫與美國、韓國等芯片廠商的合作經(jīng)驗將被復制到中國,該超高純度化學解決方案完全可以順應中國芯片廠商對10nm、7nm,甚至更高芯片制程的需求。”另據(jù)消息稱,上述裝置尚未竣工,巴斯夫即同時啟動擴建項目,擴容后產(chǎn)能將翻番,擴建項目預計將于今年年底投產(chǎn),共計每年生產(chǎn)24000噸高純度電子級硫酸,可以滿足整個中國芯片市場相當一部分需求。

  “在iPhone、華為P20等明星智能手機中,手機芯片制程已經(jīng)達到10nm級別,巴斯夫客戶中有的芯片廠商已經(jīng)具備了7nm和5nm的制程水平。要實現(xiàn)如此精密的芯片生產(chǎn)工藝,就需要萬億分之一級別的超純純度化學制品。‘萬億分之一’就好比,一滴水之于20個奧運會游泳池的體積之比。”言甯璿說道,“在制造小于10納米單位數(shù)節(jié)點晶片的過程中需要經(jīng)過數(shù)百道清洗工序,巴斯夫嘉興裝置所生產(chǎn)的硫酸在性能水平上已經(jīng)超越了當今速度最快、性能最優(yōu)的半導體標準要求,其質(zhì)量與穩(wěn)定性在業(yè)內(nèi)首屈一指。”

  咨詢機構SEMI數(shù)據(jù)顯示,2017年全球晶元出貨金額已經(jīng)達到4000億美元,而中國在半導體設備資本支出方面的增長速度將遠高于全球平均水平。巴斯夫預計,2019年,中國大陸芯片廠商將實現(xiàn)14nm制程工藝,2020年達到7-10nm水平,快速追趕國際頂尖工藝水準。

  巴斯夫中國區(qū)總經(jīng)理竇崢透露,嘉興工廠將主要向北京、上海、南京、重慶、成都、廈門等城市的芯片廠商供貨,同時,“長三角目前仍是中國芯片業(yè)需求量最大的地區(qū)之一,這也是巴斯夫選址嘉興的主要原因之一。”

  另據(jù)介紹,巴斯夫正在研發(fā)更高純度的十千萬億分之一的超純工藝,言甯璿透露,在與巴斯夫合作的頂尖芯片廠商實驗室中,巴斯夫已經(jīng)能為4nm制程提供完全符合要求的超純化學品。


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